真空等离子清洗机清洗特点

真空等离子清洗机清洗特点：

与湿法清洗相比，等离子清洗的优势表面在以下几个方面：

（1 ）在经过等离子清洗之后，不必再经干燥处理即可送往下道工序，被清洗物体已经很干燥。

（2 ）不使用三氯乙甲 ODS 有害溶剂。清洗后也不会产生有害污染物，属于有利于环保的绿色清洗方法。

（3）它可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部并完成清洗任务，所不必过多考虑被清洗物体形状的影响。

（4 ）整个清洗工艺流程在几分钟即可完成，因此具有效率高的特点。

（5 ）等离子清洗的最大技术特点是，它不分处理对象，可处理不同的基材。无论是金属、半 导体、氧化物还是高分子材料（如聚丙烯、聚氯 乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚脂、环氧树 脂等高聚物）都可用等离子体很好地处理。因此，特别适合不耐热和不耐溶剂的基底材料。而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗。

（6 ）在完成清洗去污的同时，还能改变材料本身的表面性能。如提高表面的润湿性能，改善膜的附着力等。

（7）自动化程度高;具有高精度的控制装置、不污染环境，时间控制的精度很高;正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证;由于是在真空中进行，保证清洗表面不被二次污染。

等离子体清洗的机理

由于等离子体中的电子、离子和自由基等活性粒子的存在，其本身很容易与固体表面发生反应。等离子体清洗主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。

就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。